С появлением печатных схем в годы последней войны фотомеханические процессы проникли в область электроники. Теперь они занимают прочное положение в качестве одного из основных методов при производстве транзисторов и составной части микроэлектронной технологии. Фотоэмульсии, которые в течение столетия применялись в графическом искусстве, дополнились фоторезистами, призванными удовлетворить нужды электронной промышленности, а изготовители объективов с высокой разрешающей способностью нашли новый рынок сбыта своей продукции.
Фоторезисты
Фоторезистом называется материал, который под действием света меняет свою растворимость [1]. При этом большинство резистов становится нерастворимым в стандартных растворителях, но в некоторых других растворителях их растворимость повышается.
Полиграфическая промышленность использовала ре-зисты, растворимые в воде, такие, как рыбный клей и желатин, активированные бихроматом калия. Эти рези-сты требуют отжига, т. е. нагревания примерно до 500° С, прежде чем они станут достаточно стойкими к травителям. Активирование других коллоидов, например шеллака, позволяет получить резисты, которые не требуют отжига и которые, как показано ниже, могут быть использованы при производстве образцовых негативов.
Многие фоторезисты, полученные за последние годы, принадлежат к группе полимеров. Характерным примером является раствор поливинилстирола. Эти резисты, полученные фирмой Kodak Ltd, широко известны под названиями KPR, KMER, KTFR, KOR, а их характеристики и способы применения подробно описаны в литературе, публикуемой изготовителями.
Резисты, которые дают обратные изображения, т. е. становятся растворимыми под действием света, имеют хорошую разрешающую способность и особенно полезны при изготовлении позитивных изображений с позитивных оригиналов. Вероятно, вскоре появится гораздо большее число таких резистов с достаточно высокой разрешающей способностью.
В настоящее время нет фоторезиста, который был бы пригоден для любых целей. Большинство потребителей применяют набор резистов, которые им хорошо известны и удовлетворяют их требованиям. Резист выбирается по его разрешающей способности, стойкости к травящим агентам и гальваническим растворам, а также по легкости, с которой он может быть удален. По-видимому, ни один резист не удовлетворяет всем этим требованиям одновременно.